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三星与长江存储达成专利合作 加速下一代V-NAND技术研发

  • 发布日期:日期:2025-07-29
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  • 文章来源:ICNWT网络整合

1. 技术合作背景

         据韩国媒体报道,全球存储芯片巨头三星电子近日与中国领先的半导体制造商长江存储(YMTC)达成重要合作协议。双方签署了关于3D NAND闪存"混合键合"(Hybrid Bonding)技术的专利交叉许可协议。这项合作将直接影响三星下一代V-NAND产品的技术路线。

2. 技术细节与突破

       根据协议内容,三星将从第10代V-NAND(代号V10)开始,采用长江存储开发的晶圆级混合键合技术。这项技术突破主要体现在三个方面:

  1.   堆叠层数突破:V10产品预计将实现420-430层的堆叠,创下行业新纪录。但当堆叠层数超过400层时,传统架构面临底层外围电路压力剧增、可靠性下降等技术瓶颈。

  2.   混合键合优势:采用的W2W(Wafer-to-Wafer)混合键合技术通过直接晶圆贴合,省去了传统TSV(硅通孔)和凸块连接,可将互连间距缩小至微米级。这种架构能缩短30%以上的电气路径,提升15%的传输速率,同时改善散热效率。

  3.   生产效率提升:新技术可简化20%以上的工艺流程,预计将使晶圆利用率提高10-15%。

3. 长江存储技术积累

长江存储在混合键合技术领域具有先发优势:

  •   2018年首次在32层3D NAND中应用该技术

  •   2020年推出"晶栈(Xtacking)"技术品牌

  •   目前已构建包含200多项核心专利的完整知识产权组合

  •   技术已成熟应用于128-232层产品量产

        行业分析师指出,这次合作表明中国企业在存储芯片核心技术上已达到国际先进水平。TrendForce数据显示,长江存储在混合键合领域的专利数量已占全球总量的18%,仅次于三星和美光。

4. 市场影响与展望

此次合作将对存储芯片行业产生深远影响:

  1.   技术路线:确认混合键合将成为超高层3D NAND的主流方案

  2.   产业格局:中国企业在全球存储产业链的话语权提升

  3.   产品竞争:三星V10量产后,层数将超越目前美光、SK海力士的领先产品

         三星计划2025年下半年在平泽P3工厂量产V10产品,初期主要面向企业级SSD和高端移动设备市场。业内人士预计,采用新技术的产品性能将提升20%以上,功耗降低15%,这有助于三星在激烈的存储市场竞争中保持技术领先优势。

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